F20 膜厚測定システム

世界中で5000台以上の導入実績を誇る業界標準、低価格・多目的な卓上膜厚システムです。研究開発から製造現場のインライン測定まで幅広い用途でご利用頂けます。
F20は、光干渉法を基に透明もしくは半透明膜の膜厚・屈折率・消衰係数を１秒程度で簡単に測定できます。
マルチポイントでのインライン測定にも対応し、RS-232CやTCP/IPなどの外部通信に対応しているので、PLCやホストコンピューターからの制御も可能です。

主な特徴

ワイドレンジの膜厚に対応（1nm〜250μm）
広い波長領域に対応（190nm〜1700nm）
パワフルな膜厚解析
光学定数（屈折率・消衰係数）の解析
コンパクトな筐体
インライン測定に対応

主な用途

フラットパネル	セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、各種光学フィルム等
半導体	レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン等
光学コーティング	反射防止膜、ハードコート等
薄膜太陽電池	CdTe、CIGS、アモルファスシリコン等
LED	アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、リン化ガリウム(GaP)等
医療	パリレン、パッシベーション、薬剤コーティング等

製品ラインナップ

機種	F20-UV	F20	F20-NIR	F20-EXR	F20-UVX
測定波長範囲	190 – 1100nm	380 – 1050nm	950 – 1700nm	380 – 1700nm	190 – 1700nm
膜厚測定範囲	1nm – 40μm	15nm – 70μm	100nm – 250μm	15nm – 250μm	1nm – 250μm
正確性*	膜厚の±0.2%		膜厚の±0.4%	膜厚の±0.2%
正確性*	1nm	2nm	3nm	2nm	1nm
測定スポット径	1.5mm もしくは0.5mm 最小0.1mmまで対応可(オプション)
光源	重水素・ハロゲン	ハロゲン			重水素・ハロゲン

*フィルメトリクス社が提供するSi基板上のSiO2膜を測定した場合の機器本体の正確性。

測定例

半導体などの精密加工品からメガネや自動車部品まで、様々なサンプルの膜厚測定ができます。

ポリシリコン膜の膜厚・屈折率の解析

メガネのハードコーティングの膜厚解析