F20 膜厚測定システム

F20 膜厚測定システム

世界中で5000台以上の導入実績を誇る業界標準、低価格・多目的な卓上膜厚システムです。研究開発から製造現場のインライン測定まで幅広い用途でご利用頂けます。
F20は、光干渉法を基に透明もしくは半透明膜の膜厚・屈折率・消衰係数を1秒程度で簡単に測定できます。
マルチポイントでのインライン測定にも対応し、RS-232CやTCP/IPなどの外部通信に対応しているので、PLCやホストコンピューターからの制御も可能です。

主な特徴

  • ワイドレンジの膜厚に対応(1nm〜250μm)
  • 広い波長領域に対応(190nm〜1700nm)
  • パワフルな膜厚解析
  • 光学定数(屈折率・消衰係数)の解析
  • コンパクトな筐体
  • インライン測定に対応

主な用途

フラットパネル セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、
各種光学フィルム等
半導体 レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン等
光学コーティング 反射防止膜、ハードコート等
薄膜太陽電池 CdTe、CIGS、アモルファスシリコン等
LED アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、リン化ガリウム(GaP)等
医療 パリレン、パッシベーション、薬剤コーティング等

製品ラインナップ

機種 F20-UV F20 F20-NIR F20-EXR F20-UVX
測定波長範囲 190 – 1100nm 380 – 1050nm 950 – 1700nm 380 – 1700nm 190 – 1700nm
膜厚測定範囲 1nm – 40μm 15nm – 70μm 100nm – 250μm 15nm – 250μm 1nm – 250μm
正確性* 膜厚の±0.2% 膜厚の±0.4% 膜厚の±0.2%
1nm 2nm 3nm 2nm 1nm
測定スポット径 1.5mm もしくは0.5mm
最小0.1mmまで対応可(オプション)
光源

重水素・

ハロゲン

ハロゲン

重水素・

ハロゲン

*フィルメトリクス社が提供するSi基板上のSiO2膜を測定した場合の機器本体の正確性。

測定例

半導体などの精密加工品からメガネや自動車部品まで、様々なサンプルの膜厚測定ができます。

 

ポリシリコン膜の膜厚・屈折率の解析

メガネのハードコーティングの膜厚解析

製品情報
Profilm3D 3次元表面形状測定システム
F20 膜厚測定システム
F10-RT 反射・透過・膜厚測定システム
aRTie 反射・透過・膜厚測定システム
F3-sX 基板厚測定システム
F3-CS 卓上膜厚測定システム
F40 汎用顕微鏡モデル
F40-UVX 紫外・近赤外対応顕微鏡モデル
F50 自動膜厚測定システム
F60 アライメント自動膜厚測定システム
F54 顕微式自動膜厚測定システム
お知らせ一覧
2017年12月13日~15日に東京ビッグサイトで開催される「SEMICON JAPAN」に出展します。皆様のご来場をおまちしております。
2017年10月31日~11月1日に筑波大学東京キャンパスで開催される「OPJEXPO 2017」(日本光学会附設展示会)に出展します。
2017年9月13日~15日に東京ビッグサイトで開催された「測定計測展」に出展しました。皆様のご来場に感謝します。

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