F50 自動マッピング膜厚測定システム
F50自動マッピング膜厚測定システムは、光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。
指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定することが出来ます。
大型ガラス基板に対応したオプション製品もございます。
指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定することが出来ます。
大型ガラス基板に対応したオプション製品もございます。
主な特徴
- 光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステム
- 指定したポイントの膜厚，屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定
- 2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定可能
主な用途
| 半導体 | レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、 研磨後のシリコンウエハー、化合物半導体基板、ⅬT基板など |
|---|---|
| フラットパネル | セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、 各種光学フィルムなど |
| 薄膜太陽電池 | CdTe、CIGS、アモルファスシリコンなど |
| LED | アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、リン化ガリウム(GaP)など |
製品ラインナップ
| モデル | F50-UV | F50 | F50-NIR | F50-EXR | F50-UVX | |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 測定波長範囲 | 190-1100nm | 380-1050nm | 950-1700nm | 380-1700nm | 190-1700nm | |
| 膜厚測定範囲 | 5nm-40μm | 20nm-70μm | 100nm-250μm | 20nm-250μm | 5nm-250μm | |
| 正確性* | 膜厚の±0.2% | 膜厚の±0.4% | 膜厚の±0.2% | |||
| 1nm | 2nm | 3nm | 2nm | 1nm | ||
| 測定スポット径 | 標準1.5mm 0.5mm, 0.2mm, 0.1mmに対応可(オプション) |
|||||
| 光源 |
重水素・ ハロゲン |
ハロゲン |
重水素・ ハロゲン |
|||
測定例
膜厚解析FILMapperソフトウエアは、パワフルな独自の膜厚解析アルゴリズムと測定ポイントを簡単に指定出来る機能を有しております。
高速測定が可能で、300mmウエハー上の25ポイント測定を最速21秒で完了します。