F50 自動膜厚測定システム

F50 自動マッピング膜厚測定システム

F50 自動膜厚測定システム
F50自動マッピング膜厚測定システムは、光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。
指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定することが出来ます。
大型ガラス基板に対応したオプション製品もございます。

主な特徴

  • 光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステム
  • 指定したポイントの膜厚,屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定
  • 2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、任意の測定ポイントを指定可能

主な用途

半導体 レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、
研磨後のシリコンウエハー、化合物半導体基板、ⅬT基板など
フラットパネル セルギャップ、ポリイミド、ITO、ARフィルム、
各種光学フィルムなど
薄膜太陽電池 CdTe、CIGS、アモルファスシリコンなど
LED アルミニウムガリウムヒ素(AlGaAs)、リン化ガリウム(GaP)など

製品ラインナップ

モデル F50-UV F50 F50-NIR F50-EXR F50-UVX
測定波長範囲 190-1100nm 380-1050nm 950-1700nm 380-1700nm 190-1700nm
膜厚測定範囲 5nm-40μm 20nm-70μm 100nm-250μm 20nm-250μm 5nm-250μm
正確性* 膜厚の±0.2% 膜厚の±0.4% 膜厚の±0.2%
1nm 2nm 3nm 2nm 1nm
測定スポット径 標準1.5mm
0.5mm, 0.2mm, 0.1mmに対応可(オプション)
光源

重水素・

ハロゲン

ハロゲン

重水素・

ハロゲン

 

測定例

膜厚解析FILMapperソフトウエアは、パワフルな独自の膜厚解析アルゴリズムと測定ポイントを簡単に指定出来る機能を有しております。

高速測定が可能で、300mmウエハー上の25ポイント測定を最速21秒で完了します。

製品情報
Profilm3D 3次元表面形状測定システム
F20 膜厚測定システム
F10-RT 反射・透過・膜厚測定システム
aRTie 反射・透過・膜厚測定システム
F3-sX 基板厚測定システム
F3-CS 卓上膜厚測定システム
F40 汎用顕微鏡モデル
F40-UVX 紫外・近赤外対応顕微鏡モデル
F50 自動膜厚測定システム
F60 アライメント自動膜厚測定システム
F54 顕微式自動膜厚測定システム
お知らせ一覧
2017年12月13日~15日に東京ビッグサイトで開催される「SEMICON JAPAN」に出展します。皆様のご来場をおまちしております。
2017年10月31日~11月1日に筑波大学東京キャンパスで開催される「OPJEXPO 2017」(日本光学会附設展示会)に出展します。
2017年9月13日~15日に東京ビッグサイトで開催された「測定計測展」に出展しました。皆様のご来場に感謝します。

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