F54 顕微式自動膜厚測定システム

F54 顕微式自動膜厚測定システムは、微小領域での高精度な膜厚・光学定数解析機能と自動高速ステージを組み合わせたシステムです。2インチから450mmまでのシリコン基板に対応し、指定したポイントの膜厚、屈折率を、従来では考えられなかったスピードで測定します。
5倍から50倍の対物レンズに対応し、測定スポット径を1μmから100μmまで用途に応じて選択することが出来ます。
5倍から50倍の対物レンズに対応し、測定スポット径を1μmから100μmまで用途に応じて選択することが出来ます。
主な特徴
- 光干渉の原理に基づいた膜厚測定機能と自動高速ステージを組み合わせたシステム
- 5倍から50倍の対物レンズに対応し、測定スポット径を1μmから100μmまで用途に応じて変更可能
- 2インチから450mmまでのシリコン基板に対応
主な用途
半導体 | レジスト、酸化膜、窒化膜、アモルファス/ポリシリコン、 研磨後のシリコンウエハー、化合物半導体、ⅬT基板など |
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フラットパネル | 有機膜、ポリイミド、ITO、セルギャップなど |
製品ラインナップ
モデル |
F54-UV |
F54 |
F54-NIR |
F54-EXR |
F54-UVX |
|
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測定波長範囲 |
190 – 1100nm |
400 – 850nm |
950 – 1700nm |
400 – 1700nm |
190 – 1700nm |
|
膜厚測定範囲 |
5X |
– |
20nm – 40μm |
40nm – 120μm |
20nm – 120μm |
– |
10X |
– |
20nm – 35μm |
40nm – 70μm |
20nm – 70μm |
– |
|
15X |
4nm – 30μm |
20nm – 40μm |
40nm – 100μm |
20nm – 100μm |
4nm – 100μm |
|
50X |
– |
20nm – 2μm |
40nm – 4μm |
20nm – 4μm |
– |
|
100X |
– |
20nm – 1.5μm |
40nm – 3μm |
20nm – 3μm |
– |
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正確性* |
膜厚の±0.2% |
膜厚の±0.4% |
膜厚の±0.2% |
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1nm |
2nm |
3nm |
2nm |
1nm |
測定例
シリコンウエハー上の酸化膜・レジストなどの測定が可能です。
シリコン基板上の酸化膜の測定